Canon, le géant japonais de l’électronique, est sur le point de révolutionner le secteur des semi-conducteurs avec des machines de nano-impression pour la production de puces mémoire. Le marché de la lithographie des semi-conducteurs s’apprête à connaître un véritable chamboulement. Selon nos confrères du MondeNumérique, l’entreprise spécialisée dans la photographie numérique, a lancé une nouvelle gamme de machines de nano-impression. Ces machines offrent une alternative convaincante aux équipements EUV (lithographie extrême ultraviolet) et sont, d’une part, plus rentables et, d’autre part, consomment moins d’énergie. Leur processus de fonctionnement imprimant directement les motifs de circuits sur les plaquettes de silicium est en effet une méthode très avantageuse, contrairement à celle des EUV. Cette méthode de fabrication est notable à plus d’un terme, puisqu’elle va désormais offrir de nouvelles méthodes de fabrication de puces aux fabricants. De son côté, Canon a décidé de revoir à la hausse ses objectifs de vente. Elle compte même orienter l’utilisation de ces machines vers les nouvelles technologies et l’intelligence artificielle.